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颀中科技获专利背后的技术革新:晶圆对中机制助力半导体洗边精度提升

作者:新闻中心 时间:2024-12-20 01:11:16

  近日,颀中科技(688352)获得了一项实用新型专利授权,专利名为“晶圆对中机构及具有其的洗边装置”,这标志着公司在半导体制造领域的又一重要突破。根据天眼查APP的多个方面数据显示,此项专利的申请号为CN6.X,其授权日期为2024年11月1日。此项技术的核心在于其创新的晶圆对中机构设计,旨在明显提升晶圆在洗边过程中的位置精度,解决了传统设备因精度不稳定而造成的质量问题。

  专利文献中透露,晶圆对中机构的设计包括一个用于承载晶圆的承载盘,以及多个分布均匀的卡爪对其进行精准对中。这些卡爪通过驱动单元进行移动,以此来实现对晶圆的准确定位。特别的是,每个卡爪都配备了可调节的抵接部,这一创新设计使其能够在晶圆对中时,精确抵接晶圆边缘,从而确保在后续洗边环节中,晶圆的对中位置保持精确。

  这一技术的推出,显然将极大提高晶圆洗边过程的均匀性和精度,推动半导体制造工艺向更高的标准迈进。自2024年以来,颀中科技已经授权了15个专利,虽然较去年同期有一定减少(下降11.76%),但其在研发上的持续投资却显示出其对技术创新的坚定信念。2024年上半年,颀中科技在研发上的投入达6821.45万元,同比增加了40.85%,显示出其加大技术攻关的决心。

  在半导体行业中,洗边技术是关键工序之一,影响最终产品的质量。晶圆在清洗前必须确保其位置准确,否则可能会引起后续处理的不良和浪费。这项专利的成功授权,无疑为颀中科技在行业内树立了技术壁垒,也为客户提供了更高质量的产品保障。

  从宏观趋势来看,随只能制造和物联网的发展,半导体行业的未来将更加依赖高端、精密的制造设备。AI技术的持续进步,使得自动化水准不断提升,预计会在不久的将来渗透到更深层次的半导体生产环节中,对传统制造模式形成挑战。而颀中科技此项技术恰恰是这一变革的重要组成部分。

  同时,这也引发了对整个行业社会价值的深思。随着科学技术进步带来的产品升级,怎样平衡技术创新带来的效益与可能带来的资源浪费和环境压力,已成为行业亟待解决的问题。在这方面,颀中科技的技术突破不仅为公司带来了竞争优势,也为整个行业可持续发展提供了新启示。

  未来,随着颀中科技不断推动技术发展,进一步的应用和案例也将逐渐浮现。无论是在智慧城市、人机一体化智能系统,还是在医疗器械、消费电子等领域,半导体的应用场景正继续扩展。因此,支持企业在研发上的投入和技术创新,将不仅对企业自身,对整个行业乃至国家的高新技术发展具备极其重大意义。

  总而言之,颀中科技新近获得的实用新型专利,正是半导体技术进步的一个缩影。随着行业对高精度制造的需求一直增长,颀中科技的这项技术和研发投入将成为未来半导体产业链上的新动力。返回搜狐,查看更加多